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시각적(광학) 환상
시각적(광학) 환상 / 날카로운 모서리의 과장

날카로운 모서리의 과장. 착시의 백과사전

여가 활동으로서 / 시각적(광학) 환상

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많은 착시 현상은 평평한 그림에서 볼 수 있는 날카로운 모서리를 과장하는 우리의 시력 능력으로 설명됩니다. 첫째, 아마도 이런 종류의 환영은 우리가 보는 빛의 공간이 예각을 제한하는 어두운 선 주위로 확장됨에 따라 조사 현상으로 인해 나타납니다. 둘째, 일반적인 심리적 대조로 인해 예각이 증가하는 것도 가능합니다. 종종 예각이 둔각 옆에 있고 상황이 영향을 미치기 때문입니다. 셋째, 안구 운동의 방향과 일반적으로 이동성은 이러한 환상의 출현에 매우 중요합니다. 선에 틈이 있으면 시야의 축이 먼저 최단 방향을 따라 이동한 다음 둔각의 측면만 검사하기 때문에 우리의 눈은 먼저 예각을 "잡습니다".

이 환상이 실제로 눈의 움직임에 달려 있다는 사실은 시야가 단기 섬광으로 비춰지면 눈에 시간이 없기 때문에 이런 종류의 환상이 많이 관찰되지 않는다는 사실로 확인됩니다. 그림의 날카롭고 둔각을 모두 보기 위해 플래시 동안 이동합니다.

특히 건축에서는 첫 번째 선과 날카 롭고 둔각을 형성하는 선과 교차하는 진정한 평행선의 곡률 착시를 피하기 위해 부품의 특수 분해가 사용되며 방사형 선이 선호됩니다.

사람은 일정한 노력으로 눈의 움직임 방향을 바꾸므로 건축에서는 움직임의 방향을 바꾸기 전에 눈의 움직임을 점차적으로 늦추는 특별한 방법이 사용됩니다. 이에 대한 가장 좋은 예는 기둥의 기둥머리와 바닥인데, 이는 기둥의 축을 따라 아래에서 위로, 반대로 위에서 아래로 시선의 움직임을 지연시킵니다. 마지막으로, 경우에 따라 눈의 난시로 인해 뚜렷한 날카로운 모서리가 과장될 수 있습니다. 어쨌든 날카로운 모서리는 항상 실제보다 크게 보이므로 보이는 그림 부분의 실제 비율에 특정 왜곡이 나타납니다. 다음은 날카로운 모서리를 과대 평가하여 발생하는 몇 가지 착시 현상입니다(그림 63-70). 무화과에. 65-67 날카로운 모서리의 과장으로 인해 가장 단순한 착시 현상이 나타납니다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 63. 평행선과 예각으로 교차하는 직선 세그먼트는 오프셋된 것처럼 보이며 동일한 선(왼쪽 및 중앙)에 속하지 않거나 동일한 각도(오른쪽)의 측면이 아닙니다. (포겐도르프 환상.)

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 64. 계속하면 왼쪽 호가 오른쪽 호와 수렴하지 않고 실제로 수렴하는 것 같습니다. 이런 종류의 환영은 아치형 천장, 문 또는 창문이 있는 건물에서 종종 볼 수 있습니다. 앞에 서있는 기둥에 의해 해부 된 둥근 천장의 선이 수렴되지 않는 것 같습니다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 65. 직선 ab는 점 O에서 끊어진 것 같고 위쪽에서 각도 aOb는 180° 미만으로 보이고 아래쪽에서는 180° 이상으로 보입니다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 66. 세그먼트 A와 B, 세그먼트 C와 D는 서로의 연속입니다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 67. 모든 경우에 차이가 5 °이지만 각 후속 각도 증가는 이전 각도보다 큰 것 같습니다.

간격으로 분리된 두 개의 선을 볼 때 우리는 "마음 속에서" 두 선을 연결할 수 있고 그 중 하나가 다른 하나의 연속인지 여부를 결정할 수 있습니다. 그러나 이러한 선 중 하나에 다른 선을 그려 예각을 형성하면 평가에 대한 확신이 즉시 사라집니다. 예를 들어, 그림에서. 66 A의 연속은 5행 아래에 있고 C의 연속은 D의 오른쪽에 있는 것 같습니다. 착각이 사라지게 하려면 C 또는 A행을 닫아야 합니다. 22 및 24. 다른 관찰 위치를 선택하면 환상이 사라집니다. 즉, 환상의 모양은 주어진 대상의 "관점"에 따라 달라집니다. 따라서 Fig. 68, 69, 70은 평행선을 따라 그림의 평면과 보는 방향을 결합하면 환상이 사라집니다. 관찰 조건이 호의적이지 않으면 환상은 관찰되지 않을 수 있습니다. 그러므로 때때로 우리는 다른 환경에서 볼 수 없는 것을 볼 수 있습니다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 68. 평행한 직선은 배경의 영향으로 평행하지 않고 휘어 보인다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 69. 평행한 직선은 배경의 영향으로 평행하지 않고 휘어 보인다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 70. 평행한 직선은 배경의 영향으로 평행하지 않고 휘어 보인다.

이 원칙은 소위 "신비한 그림"을 조사하고 "신비한 비문"을 읽는 것을 기반으로 합니다. 이 그림들은 물체의 세로 길이를 일부러 늘리고 가로 길이를 크게 줄여 그린 것으로, 비문은 일부러 높이를 늘리고 가로 방향으로 좁게 글자로 구성되도록 썼다(도 71). 시트의 평면과 눈의 평면을 결합하여 문자의 보이는 수직 치수를 줄이고 이 "신비한 비문"을 자유롭게 읽습니다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 71. 아랍 속담 읽기

Fig. 68, 69 및 70은 짧은 섬광으로 본 다음 환상이 사라집니다.

눈이 시야에서 다른 선의 방향을 따른다는 사실 때문에 때로는 선 방향의 변화와 그림 모양의 왜곡이 발생한다는 점에 유의해야 합니다. 따라서 예를 들어 날카로운 모서리의 과장과 심리적 대조 또는 표시된 상황 중 하나와 같은 착시를 유발하는 원인과 인물을 볼 때 시선이 미끄러지는 경우가 있습니다. 그것을 둘러싼 배경선 (그림 72-78) *.

* (그림 75, 76의 착시는 모스크바 대학 P. V. Preobrazhensky의 Privatdozent가 처음 지적했습니다.)

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 72. 이 그림에서 선의 중간 부분은 평행하지만 평행하지 않은 것처럼 보입니다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 73. 사각형의 직선면이 휘어진 것처럼 보이고 전체 사각형이 변형됨

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 74. 정사각형과 직선의 측면은 평행하지 않고 구부러져 보입니다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 75. 정사각형의 오른쪽 위 모서리가 직선처럼 보이지 않고 날카롭다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 76. 원은 타원처럼 보입니다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 77. 원은 각 이등분선에 대해 대칭인 타원형으로 보입니다.

시각적(시각적) 착시 / 날카로운 모서리의 과장
쌀. 78. 직선의 의도적 곡률 fig. 74는 동심원을 배경으로 정사각선과 평행선이 그려진 듯한 인상을 줄 수 있습니다(착시가 사라짐).

4, 5 및 6 단락에서 우리가 제공 한 대부분의 환상은 원하는 경우 이러한 환상이 나타날 수있는 그림과 도면에서 선과 그림을 적절하게 표현하여 제거 할 수 있습니다. 예를 들어, 그림의 모든 세그먼트는 우리에게 크게 보이는 21-45는 의도적으로 더 작게 묘사될 수 있습니다. 작아 보이는 곡선, 각도, 원은 의도적으로 확대할 수 있습니다. 비뚤어져 보이는 직선을 직선으로 보이도록 곡선으로 그릴 수 있습니다(그림 78). L. Euler가 1774년까지 거슬러 올라가 지적했듯이 이러한 기회는 예술가들에 의해 널리 사용됩니다. 그는 다음과 같이 썼습니다. 모든 그림 예술은 기본입니다.우리는 진실에 따라 사물을 판단하는 데 익숙하므로 이 예술은 우리가 눈이 멀었을 때와 마찬가지로 설 자리를 가질 수 없었습니다.

앞서 언급한 바와 같이 건축가도 구조물의 특정 부분에서 발생하는 잘못된 시각적 인상을 바로잡아야 하는 필요성에 직면하는 경우가 많습니다. 이미 고대 그리스의 건축가들은 수평선보다 훨씬 높은 곳에 위치한 요소를 관찰할 때 착시 현상으로 인해 발생하는 겉보기 곡률의 적절한 수정(보정)을 의도적으로 도입했습니다. 1764년 파리의 수플로 판테온 건물에 포르티코를 건설하는 동안 비슷한 수정이 이루어졌습니다.

동화 능력에 기반한 환상(그림 45-50)은 제거하기가 더 어렵지만 이 경우 눈금자와 나침반과 같은 간단한 장치를 사용하여 착시를 피할 수 있습니다.

드문 경우지만, 예를 들어 타이포그래피 글꼴의 경우 착시 현상을 제거하는 것이 바람직하지 않습니다(그림 58).

저자: Artamonov I.D.

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다차원 상태 설계를 위한 프로토콜 23.12.2021

피할 수 없는 노이즈의 존재와 실험 장치의 특성상의 단점은 다차원 상태 생성의 전반적인 품질을 저하시킵니다. 이러한 한계를 극복하기 위해 로마 사피엔자 대학, 벨파스트 퀸즈 대학 및 팔레르모 대학의 연구원 팀은 임의의 다차원 상태를 생성할 수 있는 적응 최적화 프로토콜을 사용했습니다.

적응 최적화 프로토콜은 잡음이 있는 조건에서 실험 매개변수의 최적 값을 찾아야 하는 양자 정보 문제를 해결하기 위해 임의의 다차원 상태를 구성합니다.

양자 정보 프로토콜에서 다차원 양자 상태를 생성하면 보안 양자 통신에서 내결함성 양자 컴퓨팅에 이르는 애플리케이션에서 더 나은 성능을 제공합니다. 중요한 성과는 임의의 다차원 양자 상태를 구성할 수 있는 범용 프로토콜의 개발입니다. 이를 위해 여러 전략과 플랫폼이 제안되고 개발되었습니다.

완전한 블랙박스 시나리오에서 Sapienza University의 과학자들이 제안한 프로토콜은 생성 설정을 설명할 필요 없이 생성된 상태와 대상 상태 간의 측정된 일치에만 의존하여 적절한 실험 매개변수를 조정합니다.

광자의 궤도 각운동량에서 임의의 qudit 상태를 구성하기 위한 자동화된 플랫폼 구성표. 실험 매개변수는 목표 상태를 생성하도록 적응적으로 최적화됩니다.

과학자들은 고전적 빛과 단일 광자의 궤도 각운동량(OAM)을 사용하여 프로토콜을 실험적으로 테스트했습니다. OAM은 공간 및 위상 프로파일과 관련된 전자기장의 자유도입니다. OUM은 무한 차원의 자유도이므로 임의의 다차원 양자 상태를 인코딩하는 데 적합합니다. 저자는 OAM에서 양자 보행의 역학과 편광 자유도를 기반으로 하는 상태 생성 플랫폼을 사용하여 프로토콜을 실험적으로 구현했습니다. 편광 상태에 작용하는 연산자의 매개변수를 조정하여 OAM 공간에 인코딩된 임의의 보행자 상태를 설계할 수 있습니다. 그런 다음 제안된 최적화 알고리즘은 원하는 결과를 얻기 위해 역학을 제어하는 ​​실험 매개변수의 온라인 조정을 수행합니다.

최적화 프로토콜은 OUM의 여러 XNUMXD 대상 상태에 대한 시끄러운 실험 조건에서 잘 수행되는 것으로 나타났습니다. 마지막으로 팀은 매개변수 값에 대한 외부 영향으로 시변 노이즈를 도입하여 프로토콜의 적응성을 탐색했습니다. 프로토콜은 이러한 외부 섭동을 도입한 후 새로운 최적의 솔루션을 찾았습니다. 제안된 프로토콜은 상당한 미세 조정 없이 간섭이 있는 경우에도 다양한 상황에서 적용할 수 있습니다.

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